一個(gè)中國團(tuán)隊(duì)最近在《納米快報(bào)》上發(fā)表了一篇研究論文，描述了一種新型的5 nm超高精度激光光刻處理方法。

這項(xiàng)研究是由中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所的研究員張紫陽與國家納米中心的研究員劉謙合作進(jìn)行的。

該團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)并開發(fā)了一種新的三層堆疊薄膜結(jié)構(gòu)。對(duì)于無機(jī)鈦膜光刻膠，他們采用了雙激光束交叉堆疊技術(shù)。通過精確控制能量密度和步長(zhǎng)，它們突破了1/55衍射極限，達(dá)到了5 nm的最小特征線寬。

研究團(tuán)隊(duì)使用這種超分辨率激光直接寫入技術(shù)來實(shí)現(xiàn)納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制造。

值得一提的是，研究團(tuán)隊(duì)已經(jīng)開發(fā)出一種完全智能化的激光直寫設(shè)備，該設(shè)備利用了激光和材料的非線性特性。這與縮短激光波長(zhǎng)或增加數(shù)值孔徑的傳統(tǒng)技術(shù)途徑不同。

這打破了傳統(tǒng)激光直接寫入技術(shù)中受體材料是有機(jī)光刻膠的限制。它可以使用多種接收器材料，大大擴(kuò)展了激光直寫場(chǎng)景的應(yīng)用。